ساخت لایههای نازک اپتیکی اکسید روی و ...
ابتدا nm50 اکسید روی به روش تبخیر حرارتی فیزیکی بر روی سطح سلول خورشیدی سیلیکونی لایهنشانی شد و نتایج طیفسنجی نوری از سطح لایه نشان داد که این لایه بازتاب سطح سلول را کاهش داده است. همچنین نتایج اندازهگیری بازده سلول تحت تابش استاندارد